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ICP-OES-Geräteserie Spektroskopie auf 60 Zentimetern

Quelle: Pressemitteilung Analytik Jena 1 min Lesedauer

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Analytik Jena stellt die neue Plasma-Quant 9200 Serie vor. Die optischen Emissionsspektrometer bieten eine spektrale Auflösung bis 2 pm bei 200 nm und benötigen 40 Prozent weniger Platz als das Vorgängermodell. Sie eignen sich für komplexe Matrices in Forschung, Spurenanalytik und Qualitätskontrolle.

ICP-OES-Serie Plasma-Quant 9200(Bild:  Analytik Jena GmbH)
ICP-OES-Serie Plasma-Quant 9200
(Bild: Analytik Jena GmbH)

Für den Bereich der chemischen Elementanalyse erweitert der Laborgerätehersteller Analytik Jena sein Portfolio um die neue ICP-OES-Serie Plasma-Quant 9200. Die Geräte kombinieren hohe spektrale Auflösung mit hoher Matrixtoleranz und ermöglichen präzise Analysen selbst bei komplexen Proben. Mit der kompaktesten Stellfläche ihrer Klasse setzen sie laut Herstellerangaben zudem neue Maßstäbe für die Laboreffizienz. Die Serie ist auf die hochauflösende Bestimmung von verschiedenen Elementen ausgelegt – insbesondere in komplexen organischen Matrizes.

Analytisch vielseitig

Die Standardversion bietet eine Auflösung von 6 pm bei 200 nm und richtet sich an den Routineeinsatz in Auftrags- und Qualitätskontrolllaboren. Die Gerätevariante Plasma-Quant 9200 Elite erreicht eine Auflösung von 2 pm bei 200 nm und eignet sich für besonders anspruchsvolle Proben – etwa in der Galvanik-/Metallindustrie und Spezialchemieindustrie. Ein breiter Spektralbereich von 160 bis 900 nm, niedrige Nachweisgrenzen und eine hohe Langzeitstabilität liefern zuverlässige Ergebnisse in vielfältigen Anwendungsfeldern – von der Batterieproduktion über die Petrochemie bis hin zur Erz- und Metallanalytik.

Die Größe des neuen Instruments wurde im Vergleich zum Vorgängermodell um mehr als 40 Prozent reduziert. Mit nur 60 cm Breite lässt sich der oft knapp bemessene Laborraum effizient nutzen. Dank einer Startzeit von unter zehn Minuten ist das Gerät besonders schnell einsatzbereit, wodurch Arbeitsabläufe beschleunigt werden. Durch eine robuste Plasmaquelle von bis zu 1.700 Watt bewältigt es auch schwierige Matrizes zuverlässig, heißt es in einer Pressemeldung.

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