SIAD Germany GmbH

Spezialgase spielen eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von Wafern – dünnen, runden Scheiben aus Halbleitermaterial, die die Grundlage für Mikrochips bilden. Diese Gase sind in allen Phasen des Produktionsprozesses unverzichtbar, vom Züchten des Siliziumkristalls über die Abscheidung der Schicht bis hin zur Dotierung und Verkapselung.

Bei der Herstellung von Halbleitern kommen über dreißig verschiedene Gase zum Einsatz. Wie sie verwendet werden, hängt von der jeweiligen Technologie und der Art der erforderlichen Verarbeitung ab. Stickstoff wird beispielsweise zur Erzeugung inerter Atmosphären verwendet, die Oxidation verhindern, als Spülgas in Prozesskammern oder als Trägergas bzw. Kühlmittel für bestimmte Anlagen.

Die Versorgung der Halbleiterindustrie mit Gasen bringt erhebliche technische, kommerzielle und logistische Herausforderungen mit sich. Die Herstellung von Chips erfordert Gase mit Reinheitsgraden zwischen 99,999 % und 99,99999 %. Selbst kleinste Verunreinigungen können die gesamte Charge beeinträchtigen. Bei Verfahren wie der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) kann das Vorhandensein unerwünschter Moleküle die chemische Reaktion verändern und zu ungleichmäßigen Schichten führen, die nicht die erforderlichen Eigenschaften aufweisen. Wir führen strenge Kontrollen durch und gewährleisten eine lückenlose Rückverfolgbarkeit, um Qualität und Reinheit zu garantieren.

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