Die neuen ICP-OES- und ED-RFA-Spektrometer-Technologien überzeugen laut Hersteller Spectro Analytical Instruments mit verbesserter Leistung, höherer Produktivität und geringeren Betriebskosten.
Sowohl die Optische Emissions-Spektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-OES) als auch die energiedispersive Röntgenfluoreszenz-Technologie (ED-RFA) haben in den letzten Jahren dramatische Verbesserungen erfahren. Insbesondere zwei Flaggschiff-Geräte von Spectro stehen sinnbildlich für diese Fortschritte: Das Spectro-Arcos-ICP-OES-Spektrometer und der Spectro-Xepos-ED-RFA-Analysator. So erlaubt das Spectro Arcos einen schnellen Wechsel zwischen axialer und radialer Plasmabetrachtung, heißt es in einer Pressemeldung. Es soll verbesserte Messempfindlichkeit, Stabilität und Präzision bei reduzierten Betriebskosten bieten.
Achema: Halle 4.2, Stand J8
